pvd镀膜（cvd化学气相沉积设备）

CVD用化学方法使气体在基体材料表面发生化学反应并形成覆盖层。

指利用物理过程实现物质转移，楼上回答的很正确化学气相沉积法。

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PVD与CVD的对比CVD定义通过气态物质的化学反应在衬底上淀积一层薄膜材料的过程CVD技术特点具有淀积温度低。

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是采用化学反应的方法对零件进行的表面处理PVD等离子气相沉积法，气相沉积分为那几类方法CVD法包括那几个过程PVD法有哪些方法，沉积成覆盖层的方法zhi。

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